박막 스택 설계기

레이어 수, 순서, 재질, 두께를 자유롭게 조절하여 다층 박막 코팅을 설계합니다. 반사율과 투과율 스펙트럼을 실시간으로 확인할 수 있습니다.

Thin Film Stack Designer

Design multi-layer thin film coatings with arbitrary materials, order, and thickness. Add/remove/reorder layers freely. Supports 20+ materials.

Incident medium:AirSiO₂SiliconGePolymerGlass (BK7)

Substrate:AirSiO₂SiliconGePolymerGlass (BK7)

Preset:CustomBARL 4-layer (default)2-layer AR (MgF₂/TiO₂)Broadband AR (4-layer)HR Blue mirrorNIR-cut filter

Target:Blue (430-470nm)Green (510-560nm)Red (590-640nm)Visible (430-640nm)Full (380-780nm)

Layers (4)top → bottom (light direction)

1SiO₂Si₃N₄HfO₂TiO₂Al₂O₃MgF₂Ta₂O₅ZrO₂Nb₂O₅ZnSZnSeCaF₂ITOAlNSiCGePolymerTungsten

nm

2SiO₂Si₃N₄HfO₂TiO₂Al₂O₃MgF₂Ta₂O₅ZrO₂Nb₂O₅ZnSZnSeCaF₂ITOAlNSiCGePolymerTungsten

nm

3SiO₂Si₃N₄HfO₂TiO₂Al₂O₃MgF₂Ta₂O₅ZrO₂Nb₂O₅ZnSZnSeCaF₂ITOAlNSiCGePolymerTungsten

nm

4SiO₂Si₃N₄HfO₂TiO₂Al₂O₃MgF₂Ta₂O₅ZrO₂Nb₂O₅ZnSZnSeCaF₂ITOAlNSiCGePolymerTungsten

nm

Avg R in band:4.12%

Avg T in band:95.88%

Min R:0.71% @ 560 nm

Total thickness:80 nm

Stack cross-section:

Air

10

25

15

30

Silicon

SiO₂ HfO₂ Si₃N₄

지원 재질 (20+)

분류	재질
저굴절률 유전체	SiO₂, MgF₂, CaF₂, Al₂O₃
고굴절률 유전체	Si₃N₄, HfO₂, TiO₂, Ta₂O₅, ZrO₂, Nb₂O₅, AlN
반도체	Silicon, Ge, SiC, ZnS, ZnSe
도체 / TCO	Tungsten, ITO
폴리머 / 유리	Polymer (n=1.56), BK7 Glass

내장 프리셋

• BARL 4층: 기본 BSI 픽셀 반사 방지 스택 (SiO₂/HfO₂/SiO₂/Si₃N₄)
• 2층 AR: 간단한 MgF₂/TiO₂ 반사 방지 코팅
• 광대역 AR: 넓은 스펙트럼 커버리지를 위한 4층 설계
• HR 블루 미러: 청색 파장 고반사율 6층 스택
• NIR 차단 필터: 유리 기판 위 5층 근적외선 차단 필터

TIP

"자동 최적화" 버튼으로 목표 파장 대역에서 평균 반사율을 최소화하는 두께 조합을 찾으세요. 최적화 전에 레이어를 자유롭게 추가, 제거, 재배치할 수 있습니다.